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每日半導體新聞 : 台積電資本支出 今年勝去年
發表人 omniadmin 於 2012/4/19 11:02:59 (1392 人讀取)

 台積電2012年技術研討會於台北時間昨(18)日清晨在美國聖荷西舉行,董事長張忠謀在開幕演說中指出,台積電28奈米遇到的問題不是良率,而是產能不足,為加快擴充28奈米產能,今年資本支出將調高到超過70億美元且高於去年(約72.86億美元)。張忠謀也說,隨著28奈米產能陸續到位,最壞情況已經過去。

 包括高通(Qualcomm)、輝達(NVIDIA)、超微(AMD)等台積電大客戶,近期飽受28奈米產能不足之苦,市場上除了傳出台積電28奈米良率改善情況不如預期消息,也傳出高通、輝達等業者為了確保今年28奈米產能,已開始轉向與聯電、格羅方德(GlobalFoundries)、三星等其它晶圓代工廠合作消息。

 張忠謀昨日在技術研討會中,特別針對28奈米製程進度做出回應。他表示,台積電在28奈米製程上遇到一些困難,但這些困難並不是在良率上,而是沒有辦法擁有足夠的產能。

 張忠謀表示,台積已經在積極擴充28奈米製程產能,以緩和28奈米產能吃緊的問題,而台積電今年計畫投入超過70億美元的資本支出。一旦28奈米產能到位並順利開出,「我十分相信最壞情況已經過去」。

 台積電去年資本支出達72.86億美元,張忠謀言下之意,代表台積電今年資本支出有可能會在73億美元以上,較年初預估的60億美元提高逾2成,這不僅高過韓國三星投資在晶圓代工及系統晶片事業的70億美元資本支出,也遠高於聯電及格羅方德等競爭同業。

 張忠謀日前表示,28奈米表現好是因為是新產品,客戶需求熱絡,而28奈米成長受惠於行動通訊客戶的需求強勁,台積電在這塊市場的佔有率還會持續提升。

 台積電資深研發副總暨共同營運長蔣尚義昨日也指出,台積電將只提供一種支援高介電金屬閘極(HKMG)技術的20奈米製程,明年可望投入量產,首度採用Fin-FET的3D電晶體架構的14奈米,雖預計2015年量產,但因微影技術成本過高,不排除會提供16奈米或18奈米製程。




轉自自中時電子新聞

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